Уважаемые Дамы и Господа!

Компания ОПТЭК совместно с ИСВЧПЭ РАН и МГТУ им.Баумана приглашает вас принять участие в 7-ой встрече пользователей оборудования Raith «Электронно-лучевая литография на оборудовании Raith: от идеи до реализации». 

Дата проведения: 31 мая 2018 года
Место проведения:  ИСВЧПЭ РАН, г.Москва, пр.Нагорный д.7 к.1
Начало в 10:00 (регистрация с 9:15)

Программа семинара будет включать доклады сотрудников ИСВЧПЭ РАННОЦ ФМН МГТУ им. Баумана и компании Raith о новейших технологических разработках и прогрессе научных исследований.

В рамках семинара выступит приглашенный эксперт Dr. Vitaliy Guzenko (Paul Scherrer Institute, Laboratory for Micro- and Nanotechnology, Switzerland) с докладом о различных применениях литографа Raith EBPG в лаборатории микро и нанотехнологий Института Пауля Шеррера (Швейцария).

Приглашаем всех желающих выступить с коротким сообщением на семинаре (указать тему доклада в комментариях при регистрации)

Руководители семинара:

  • главный конструктор, заместитель директора по НИОКР ИСВЧПЭ РАНФедоров Ю.В,
  • директор НОЦ ФМН МГТУ им. Баумана Родионов И.А.,
  • директор департамента научного и промышленного материаловедения ООО «ОПТЭК» Власенко В.С.

Для желающих посетить лабораторию ИСВЧПЭ РАН и ознакомиться с электронно-лучевыми литографами RAITH 150 Two и VOYAGER будут проводиться экскурсии.

Заявки на участие принимаются до 24 мая 2018 года включительно.
Для желающих выступить с докладом — до 6 мая 2018 года включительно.

Проход на встречу будет осуществляться по списку при наличии паспорта.

Регистрация обязательна.

Подробная программа будет выслана вам на указанный при регистрации адрес после 17 мая 2018 года.

 

ЗАРЕГИСТРИРОВАТЬСЯ